ABB OA-ICOS 氣體分析儀采用離軸積分腔輸出光譜（OAICOS）技術，能夠高精度、高靈敏度地測量HF、HCL、NH3及H2O等氣體，適用于半導體晶圓廠的工藝流程檢測、氣相沉積室監測及FOUP監測。其多氣體配置、亞ppb級濃度測量能力及優化的數據處理使其具備高性能和高安全性，支持Modbus TCP輸出和遠程控制功能，操作簡便，維護需求低。
? 支持 HF、HCI、NH3 的單氣體或多氣體配置
? 提供高精度、準確的 H2O 測量結果
? 提供 0-5V 和 4-20 mA 模擬輸出（標配），可選Modbus TCP
? 優化數據處理，在測量亞 ppb 級別濃度時，實現優異性能
? 提供觸控數字顯示屏，顯示氣體濃度和分析儀的狀態
? 提供主要密碼保護，確保分析儀和數據安全
? 優化的零氣性能，確保可靠地確認過程事件
? 提供可定制的校準套件和性能認證文件包
? 堅固耐用；所需的維護工作少且花費較低
? 可輕松更換長期受到污染的部件（過濾器）和正常老化部件（泵隔膜）
? 服務工程師可現場診斷并更換其他大多數部件
? 鏡面清潔可現場進行，無需在工廠費時維修
| 項目（氣體） | NH? | H?O |
|---|---|---|
| 精度 (1σ) | <1ppb (1秒) <0.3 ppb (10秒) <0.1 ppb (100秒) | <50 ppm (1秒) <20 ppm (10秒) <10 ppm (100秒) |
| 檢測限 (LOD) | 0.3 ppb (100秒) | 50 ppm (100秒) |
| 準確性 * | ±0.3 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | >7,000 ppm = 1% FSD |
| 不同分析儀的結果差異 （相對于平均值，10秒） | ±0.4 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | ≤1000 ppm = ±10% |
| 線性測量范圍 | 高達 10,000 ppb | 高達 30,000 ppm |
| 樣品流量 (ppm) | 1.4-2.4 | |
| 響應時間 (T??, T??) | 10秒 |
| 項目（氣體） | HCl** | HF | H?O |
|---|---|---|---|
| 精度 (1σ) | <0.3 ppb (1秒) <0.1 ppb (10秒) <0.035 ppb (100秒) | <0.1 ppb (1秒) <0.05 ppb (10秒) <0.025 ppb (100秒) | <25 ppm (1秒) <10 ppm (10秒) <5 ppm (100秒) |
| 檢測限 (LOD) | 0.1 ppb (100秒) | 0.075 ppm (100秒) | 25 ppm (100秒) |
| 準確性 * | ±0.15 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | ±0.1 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | >7000 ppm = 1% FSD |
| 不同分析儀的結果差異 （相對于平均值，10秒） | ±0.2 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | ±0.2 ppb 或讀數的5%，以較高者為準 | ≤ 1000 ppm = ±10% |
| 線性測量范圍 | 高達 2,000 ppb | 高達 2,000 ppb | 高達 30,000 ppm |
| 樣品流量 (ppm) | 1.1-1.9 | ||
| 響應時間 (T??, T??) | 25秒 | 25秒 |
* 適用于典型的半導體晶圓廠，在設定的19°C和23°C溫度范圍內，在至少1小時內，變化范圍在±1°C。
** HCl測量僅適用于GLA231-HFHC型號的分析儀。
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